Sputtering, evaporación térmica, PECVD y cero supersticiones

En microscopía electrónica de barrido, recubrir bien es ver bien. Un mal recubrimiento puede arruinar hasta la mejor muestra. En ANAME, ofrecemos soluciones completas en recubridores por sputtering y evaporadores de carbono, diseñados para obtener imágenes nítidas, sin artefactos y con la máxima reproducibilidad.

Sputtering, evaporación térmica y PECVD

Deposita lo justo. Y solo lo necesario.
Trabajamos con técnicas clave para preparar muestras:

• Sputtering (pulverización catódica): bombardeo iónico para depositar metales como oro, platino o cromo. Alta uniformidad, cero improvisaciones.
• Evaporación térmica: sublimación de carbón o metales en alto vacío. Precisión sin complicaciones para facilitar procesos de microanálisis y EBSD.
• PECVD (recubrimiento con osmio): deposición asistida por plasma que proporciona la máxima conductividad y contraste. Ideal para FE-SEM y materiales biológicos, garantiza capas ultrafinas y homogéneas, perfectas para ultra-alta resolución.

Estas técnicas son imprescindibles en SEM, TEM, análisis elemental o desarrollo de materiales avanzados.

Descripción de un proceso de recubrimiento PVD: Sputtering o pulverización catódica

Recubridores versátiles para laboratorio y producción

Ofrecemos la gama más completa de recubridores para microscopía electrónica, con soluciones en sputtering, evaporación térmica de carbono y PECVD con osmio. Basados en la última evolución de la tecnología que equipaba la desaparecida generación Q150, los sistemas actuales de Quorum Technologies mantienen una excelente relación calidad-coste gracias a la continuidad en su electrónica y mecánica, y suman un nuevo diseño de chasis que reduce espacio en el banco de trabajo y facilita el mantenimiento preventivo y correctivo.

A esta oferta se une Meiwafosis con el sistema Tennant 20, especializado en recubrimientos PEVD de osmio. Gracias a esta tecnología única, ampliamos nuestro alcance más allá del sputtering y la evaporación térmica, ofreciendo soluciones de ultra-alta resolución para biomedicina, nanomateriales y aplicaciones avanzadas en FE-SEM y FEG-SEM.

De este modo, en ANAME ponemos a disposición de los laboratorios la oferta más amplia de equipos de recubrimiento del mercado, abarcando todas las técnicas clave: sputtering, evaporación de carbono y PEVD con osmio, en configuraciones de alto y bajo vacío y con la posibilidad de realizar procesos de glow discharge.

Equipos de sputtering

• MiniQ S: primera opción fabricada por Quorum Technologies. Precio reducido con todas las ventajas que ofrece un fabricante premium.
• RotaQ S: Basada en la última evolución de la plataforma Q, la plataforma RotaQ se establece como la mejor opción para realizar recubrimientos reproducibles, aplicando el mayor control de la energía en equipos de bajo vacio. Compatible con procesos de glow discharge.
• TurboQ S: modular y potente, equipa bomba turbomolecular de altas prestaciones y un sistema de aislamiento de cámara y elementos que le permite alcanzar un vacío último de 1x10-6 mbar. Por su compatibilidad con metales oxidantes es la mejor opción para la preparación de muestras utilizando FE-SEM, FEG-SEM y FIB-SEM. Compatible con procesos de glow discharge.
• Q300T T Plus: recubrimiento homogéneo de muestras de gran tamaño (hasta 300 mm) gracias al uso de tres cabezales de deposición por pulverización catódica. Equipa una bomba turbomolecular que le permite trabajar en el rango del alto vacío y trabajar con metales oxidantes. Compatible con procesos de glow discharge.
• Q300T D Plus: Equipo de deposición diseñado para realizar la deposición de varias capas de distintos materiales sin romper el vacío. Trabaja en alto vacío y es compatible con metales oxidantes. El diseño de su doble cabezal no requiere de sistema de enfriamiento.
• Q150 GB: Equipo modular de recubrimiento basado en la tecnología Q diseñado para el trabajo dentro cámara de guantes, perfecta para atmósferas controladas. El diseño modular permite que sólo la cámara de proceso permanezca dentro de la caja de guantes, liberando el espacio de trabajo. El módulo de control y fuente de alta tensión, así como la bomba de evacuación, permanecen fuera de la caja contribuyendo a mantener el ambiente sin contaminación de los materiales utilizados, o elementos movilizados durante la desgasificación de la muestra.

Evaporadores térmicos de carbono y metales:

• RotaQ E: evaporación de carbón y metales Precisión en modo sobremesa. Diseñado para facilitar procesos de análisis elemental y EBSD cuenta con la última evolución de la tecnología de control de pulsos de Quorum Technologies favorenciendo recubrimientos de carbono de espesor controlado y reproducible. Disponible con cabezales para la evaporación de cordón o hilo y barras de cabono.
• TurboQ E: Para la preparación de rejillas TEM la evaporación térmica de carbono es un proceso contrastado y con una larga experiencia en laboratorios de todo el mundo. La última generación de la serie Q cuenta con la mejor tecnología y alto vacío 1x10-6 mbar para realizar el proceso en las mejores condiciones.

Sistemas combinados:

• RotaQ ES: Sistema combinado de bajo vacío que permite realizar procesos de pulverización catódica (sputtering) de metales nobles (incluyendo Pt) y evaporación térmica de carbono, metales, así como procesos de preparación de superficies de rejillas por plasma de glow discharge.
• TurboQ ES: Máxima expresión de la tecnología Quorum para procesos de recubrimiento por sputtering para equipos de alta resolución (FESEM, FEGSEM y FIBSEM) así como la preparación de rejillas TEM o muestras listas para análisis elemental o estudios por EBSD

Equipos de PEVD (recubrimiento con osmio)

• Tennant 20 (Meiwafosis): sistema especializado en deposición de capas ultrafinas de osmio mediante PEVD. Diseñado para la investigación avanzada en biomedicina, nanotecnología y materiales sensibles al haz, permite obtener imágenes de contraste excepcional y reproducibilidad garantizada, incluso en las condiciones más exigentes de ultra-alta resolución.

¿Resultado final? Imágenes limpias y reproducibles
Tu muestra merece un recubrimiento o preparación a la altura de tu investigación.

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Cuando el recubrimiento o la preparación importa, hablamos el mismo idioma.

Equipos de sobremesa diseñados para la evaporación térmica de metales y carbón, esenciales en microscopía electrónica y la aplicación de películas delgadas. La serie RotaQ y TurboQ ofrece modelos para sputtering, evaporación térmica y sistemas combinados, adaptándose a diversas necesidades de laboratorio.

Permiten realizar recubrimientos por evaporación, metalización por pulverización catódica y descarga luminiscente (glow discharge). Su diseño modular y control por ordenador facilitan la integración en sistemas de atmósfera controlada, como cámaras de guantes.

Disponemos de una amplia gama de recubridores por sputtering, desde el compacto pero potente miniQS hasta la avanzada serie TurboQ.

Nuestros equipos se adaptan a diversas aplicaciones, con opciones de diferentes volúmenes de cámara, rangos de presión y funcionalidades adicionales, como evaporación térmica y descarga luminiscente (glow discharge), asegurando máxima versatilidad en el recubrimiento de muestras.

Disponemos de una completa gama de sistemas combinados de evaporación térmica y sputtering, diseñados para maximizar la versatilidad en la deposición de recubrimientos.

Desde modelos compactos hasta avanzadas soluciones de alto vacío, nuestros equipos permiten combinar metalización por pulverización catódica y evaporación térmica de carbón o metales, con opciones como descarga luminiscente (glow discharge) para una preparación óptima de muestras.

El PECVD recubrimiento asistido por plasma con osmio ofrece la máxima calidad de imagen en microscopía electrónica de barrido de ultra-alta resolución, especialmente en materiales biológicos y muestras sensibles. Este proceso asegura la mejor conductividad, mínima granularidad y contraste superior en FE-SEM y FEG-SEM.